Bağış 15 Eylül 2024 – 1 Ekim 2024 Bağış toplama hakkında

Anahtar kelime araması

  • Main
  • Anahtar kelime araması
1
Микролитография

Микролитография

Моро У.
Dil:
russian
Dosya:
ZiP, 82.44 MB
0 / 0
russian
3
Светочувствительные полимерные материалы

Светочувствительные полимерные материалы

Б.Беднарж, А.В.Ельцов, Я.Заховал, Я.Краличек, Т.А.Юрре. Под редакцией А.В.Ельцова.
слоя
резиста
сша
слой
мкм
sci
экспонирования
полимера
подложки
основе
рис
проявления
кислоты
композиции
качестве
полимеров
резистов
великобритании
фрг
слоев
чувствительность
излучения
результате
системы
см2
technol
электронов
резист
пмма
рельефа
polym
подложке
элементов
области
использовать
поверхности
слое
рельеф
soc
экспонировании
фоторезистов
создания
формы
изображения
полимеры
полимер
пленки
vac
литографии
толщиной
Yıl:
1985
Dil:
russian
Dosya:
DJVU, 3.82 MB
0 / 0
russian, 1985
4
Светочувствительные полимерные материалы

Светочувствительные полимерные материалы

Ельцов А.В. (ред.)
слоя
резиста
сша
слой
мкм
sci
экспонирования
полимера
подложки
основе
рис
проявления
кислоты
композиции
качестве
полимеров
резистов
великобритании
фрг
слоев
чувствительность
излучения
результате
см2
системы
поли
technol
электронов
рельефа
пмма
polym
подложке
резист
элементов
использовать
области
поверхности
слое
экспонировании
полимер
рельеф
фоторезистов
soc
создания
формы
изображения
полимеры
пленки
vac
подложку
Yıl:
1985
Dil:
russian
Dosya:
DJVU, 3.89 MB
0 / 0
russian, 1985
5
Светочувствительные полимерные материалы

Светочувствительные полимерные материалы

Ельцов А.В. (ред.)
слоя
резиста
сша
слой
мкм
sci
экспонирования
полимера
подложки
основе
рис
проявления
кислоты
композиции
качестве
полимеров
резистов
великобритании
фрг
слоев
чувствительность
излучения
результате
см2
системы
поли
technol
электронов
рельефа
пмма
polym
подложке
резист
элементов
использовать
области
поверхности
слое
экспонировании
полимер
рельеф
фоторезистов
soc
создания
формы
изображения
полимеры
пленки
vac
подложку
Yıl:
1985
Dil:
russian
Dosya:
DJVU, 3.89 MB
0 / 0
russian, 1985
6
Фотолитография

Фотолитография

Батурин И.С.
фотолитография
тема
резиста
методы
изображения
переноса
экспонирование
поверхности
фотолитографии
литография
резисты
микро
нанесение
нанолитографии
чистоты
резистов
травления
травление
технологии
помощью
литографии
введение
нанесения
билет
методов
слоя
пленок
проявка
рисунка
скорость
загрязнений
разрешение
пластины
экспонирования
резист
частиц
подготовка
фотошаблоны
проявки
термообработка
чистых
материалов
пленки
помещений
обработка
основных
процесс
пластин
тонких
очистки
Dil:
russian
Dosya:
RAR, 25.21 MB
0 / 0
russian
7
ДП-63-А. Бета-гамма-индикатор радиоактивности ДП-63-А. Описание и инструкция.

ДП-63-А. Бета-гамма-индикатор радиоактивности ДП-63-А. Описание и инструкция.

индикатора
поз
гост
питания
индикатор
эксплуатации
ножо
резист
млт
прибора
бета
кнопка
излучения
электроизмерительного
источников
гамма
резистор
работ
дозы
напряжения
подпись
примечание
экспозиционной
источника
поддиапазона
мгшв
наименование
передней
панели
хранения
цепи
источник
кожуха
поддиапазоне
проверить
произвести
производится
тока
ветошью
индикаторов
индикаторы
преобразователя
рис
счетчик
техническое
0л4мм2
источники
мощности
стрелка
таблице
Dil:
russian
Dosya:
DJVU, 1.92 MB
0 / 0
russian
9
Нанотехнологии и микромеханика: Учеб. пособие. – Ч. 4: Зондовые нанотехнологии

Нанотехнологии и микромеханика: Учеб. пособие. – Ч. 4: Зондовые нанотехнологии

Иванов Ю.А., Башков В.М., Шашурин В.Д., Федоркова Н.В.
зонда
поверхности
рис
зонд
образца
стм
подложки
электронов
асм
тока
зондом
знт
ток
подложка
частицы
силы
частиц
молекул
слоя
туннельного
атомов
области
металла
оси
режиме
слой
нанотрубок
слое
барьера
острие
двигателя
помощью
туннельный
энергии
микроскопа
поверхностью
нанотехнологии
нанотрубки
образец
острия
резиста
кантилевера
поле
процесса
вершины
обратной
расстояния
резист
литографии
молекулы
Yıl:
2007
Dil:
russian
Dosya:
PDF, 872 KB
0 / 0
russian, 2007
10
Нанотехнологии и микромеханика. Ч. 4. Зондовые нанотехнологии

Нанотехнологии и микромеханика. Ч. 4. Зондовые нанотехнологии

Ю.А. Иванов, В.М. Башков, В.Д. Шашурин, Н.В. Федоркова
зонда
поверхности
рис
зонд
образца
стм
подложки
электронов
aгентство
cервис
kнига
бибком
оао
ооо
цкб
асм
тока
зондом
знт
ток
подложка
частицы
силы
частиц
молекул
слоя
туннельного
атомов
области
металла
оси
режиме
слой
нанотрубок
слое
барьера
острие
двигателя
помощью
туннельный
энергии
микроскопа
поверхностью
нанотехнологии
нанотрубки
образец
острия
резиста
кантилевера
поле
Dil:
russian
Dosya:
PDF, 750 KB
0 / 0
russian
12
Компьюторное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами. Курс лекций

Компьюторное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами. Курс лекций

Юрчук С.Ю.
рис
фоторезиста
резиста
изображения
электронов
экспонирования
элементов
мкм
моделирование
энергии
близости
литографии
процесса
изображение
травления
exp
излучения
пучка
процессов
зависит
определяется
волны
поверхности
подложки
рисунка
способность
формирования
маски
резист
топологического
электронной
моделирования
параметров
фотолитографии
электронного
метода
пленки
процесс
проявления
системы
топологии
фотолитографических
электроны
луча
плотность
помощью
размеры
разрешение
распределение
формы
Yıl:
2013
Dil:
russian
Dosya:
PDF, 23.37 MB
0 / 0
russian, 2013
15
История болезни - Туберкулома

История болезни - Туберкулома

Dil:
russian
Dosya:
DOCX, 1.09 MB
0 / 0
russian
16
Реферат - Радиационные методы литографии

Реферат - Радиационные методы литографии

Барбарош С.С.
Dil:
russian
Dosya:
DOC, 112 KB
0 / 0
russian